UV 경화 코팅/잉크에 시클로 지방족 에폭시 수지의 적용

업계 예측에 따르면, 전 세계 UV 경화 코팅 시장은 2020 년 6.5 억 달러에서 2025 년 11.4 억 달러로 성장할 것으로 예상되며 복합 연간 성장률은 12%. UV 코팅은 고광택 표면을 제공하고, 환경 친화적이고, 내마모성이며, 빠른 건조이며, 다양한 성능 특성을 제공한다. 환경 규제의 지속적인 도입으로 업계에서 녹색 코팅의 인기가 높아지고 있으며 UV 경화 코팅에 대한 요구도 증가했습니다. 그러나 COVID-19 유행하는 동안 전자 및 산업용 코팅 산업은 매출 감소로 인해 UV 경화 코팅에 대한 요구에 영향을 미쳤습니다.

배출 감소에 대한 점점 더 엄격한 규제로 인해, UV 경화 코팅은 유럽 및 북미와 같은 지역에서 더 많이 수용됩니다. 그러나 아시아 태평양 및 MEA (중동 및 아프리카) 지역에서는 추가 개발이 필요합니다. UV 경화 기술은 UV 자유 라디칼과 UV 양이온 시스템으로 광범위하게 나눌 수 있습니다. 우수한 가공 성능을 특징으로하는 UV 양이온 코팅은 주로 유럽과 미국 시장에서 사용할 수있는 금속 캔, 코일 스틸 및 유연한 포장 산업에 널리 적용되었습니다.

다음은 시스템과 성능 측면에서 두 기술을 간략하게 비교 한 것입니다.

시스템 차이

UV 양이온성 및 자유 라디칼 재료는 크게 다르지만 유사한 일반 조성을 가지고 있습니다. 양이온 시스템은 에폭시 물질에 의해 지배되지만, 기존의 비스페놀 A 형 에폭시 수지의 반응 속도는 느리기 때문에시클로 지방족 에폭시 수지/옥세탄 재료가 더 널리 사용되고; 자유 라디칼 시스템의 상용화는 매우 성숙되어 왔으며 더 많은 용액이 에폭시/폴리에스테르/폴리우레탄 변형 아크릴 에스테르 물질과 함께 이용가능하다.

자유 라디칼 시스템과 비교하여 UV 양이온 시스템은 원료에 대한 옵션이 적고 폴리머는 주로 점도가 낮은 시클로 지방족 에폭시 수지로 구성됩니다. 테트라 (Tetra) 에 의해 생성 된 다음과 같은 시클로 지방족 에폭시 수지를 예로 들어 보겠습니다.

위에서 언급 한 재료는 UV 잉크 및 코팅 산업에 널리 적용되며, 그 중 다양한 순도 사양을 가진 TTA21 이 주요 제품입니다. 양이온성 UV 코팅/잉크의 적용이 지속적으로 크게 증가함에 따라 TTA21 로 표시되는 시클로 지방족 에폭시 수지의 사용량이 예상됩니다.3 4 에폭시 시클로 헥실 메틸 3 4 에폭시 시클로 헥산 카르 복실 레이트, 또한 증가 할 것입니다.

테트라특수 에폭시 수지항상 사이클로지방족 에폭시 수지 제품의 R & D 및 개발에 전념하고 있습니다. 완전한 cate피토리와 충분한 생산성, 회사는 다양한 양이온 UV 경화 시나리오의 적용을위한 적절한 제품 준비금을 마련했습니다.

성능 차이

특정 잉크/코팅 응용 분야에서는 UV 광이 경화 에너지를 제공 할 필요성 외에도 다음과 같이 두 시스템의 성능 및 반응 특성에 큰 차이가 있습니다.

1. 산소 억제 효과

UV 양이온 시스템은 산소 억제에 영향을받지 않지만 물에 민감하며 습도는 양이온 시스템의 경화 효율에 영향을 줄 수 있습니다. 반대로, UV 자유 라디칼 시스템은 산소 억제에 의해 크게 영향을받습니다.

2. 기판 접착

일반적으로, 유리/금속 및 고밀도 플라스틱과 같은 접착하기 어려운 기판의 경우, UV 양이온 시스템은 UV 자유 라디칼 시스템보다 우수한 접착력을 나타낸다.

3. 볼륨 수축

UV 자유 라디칼 시스템의 수축률은 일반적으로 10% 이상이며 UV 양이온 시스템의 수축률은 1-3% 로 제어 할 수 있으며 이는 부피 수축에 대한 최적의 솔루션입니다.

4. 어두운 경화 특성

UV 광원이 꺼진 후, UV 양이온 시스템은 재료의 후 경화를 완료하기 위해 내부로 계속 반응 할 수 있으며, 이는 두꺼운 코팅 적용에 적합합니다. 가열은 양이온 후 경화 속도를 향상시키는 데 분명히 도움이됩니다. UV 자유 라디칼 시스템은 UV 광원이 꺼지면 화학 반응을 멈추는 반응 시스템입니다.

5. 노출 안전

UV 양이온 시스템의 반응 정도는 100% 에 가깝고 안전성은 REACH/FDA 테스트를 통해 인증 될 수있어 식품 포장 및 기타 관련 분야에 적합합니다.

6. UV 경화 속도

일반적으로, UV 자유 라디칼 시스템의 경화 속도는 양이온 시스템의 경화 속도보다 빠르다. 양이온 표면은 산소 억제에 의해 영향을받는 제품의 경우 더 빨리 건조되지만 실제 경화 속도는 자유 라디칼 시스템만큼 빠르지 않습니다. 반응은 가열에 의해 가속될 수 있고 궁극적으로 매우 양호한 정도의 완료를 달성할 수 있다.

수식에 대한 노트

UV 양이온 시스템은 UV 하이브리드 시스템으로 알려진 모든 비율로 UV 자유 라디칼 시스템과 혼합 될 수 있으며, UV 양이온 시스템의 상대적으로 느린 경화 속도와 같은 단점을 극복 할 수 있습니다. UV 자유 라디칼 시스템의 큰 수축률 및 산소 억제에 의해 영향을 받는다. 동일한 필름 두께로, 경화 에너지는 두 시스템 사이에서 크게 다르지 않다.

UV 양이온성 시스템은 개시제에 의해 생성된 루이스 산의 활성 부위에 의존하여 개환 반응을 수행한다. 공식에서 개시제의 활성에 일반적으로 영향을 미치는 물질에는 아조 화합물의 유기 안료 (변형에 의해 보호됨), TOP/819/907 P 함유, S 및 기타 원소 및 115 유사한 다단계 아민.

습도는 UV 양이온 시스템의 경화에 상당한 영향을 미치므로 주변 습도를 50% 이하로 제어하는 것이 좋습니다. 가열은 또한 반응 속도를 가속시킬 수 있다.